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　　項(xiàng)目簡(jiǎn)介

　　XPS，全稱為X-ray Photoelectron Spectroscopy(X射線光電子能譜)，早期也被稱為ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)，是一種使用電子譜儀測(cè)量X-射線光子輻照時(shí)樣品表面所發(fā)射出的光電子和俄歇電子能量分布的方法。

　　XPS可用于定性分析以及半定量分析, 一般從XPS圖譜的峰位和峰形獲得樣品表面元素成分、化學(xué)態(tài)和分子結(jié)構(gòu)等信息，從峰強(qiáng)可獲得樣品表面元素含量或濃度。

　　1. X射線光電子能譜(XPS)可測(cè)試全譜、精細(xì)譜、俄歇譜、價(jià)帶譜，也可刻蝕后采譜得到深層的信息;

　　2. X射線光電子能譜(XPS)按元素個(gè)數(shù)收費(fèi)(需要包含必測(cè)元素C，不能測(cè)試H、He元素);一個(gè)元素默認(rèn)測(cè)一個(gè)軌道，若測(cè)試多個(gè)軌道計(jì)為多個(gè)元素;一個(gè)樣品默認(rèn)一個(gè)測(cè)試位置，若測(cè)試多個(gè)位置計(jì)為多個(gè)位置;

　　3. XPS定量為半定量數(shù)據(jù)。原子百分含量小于5%的元素可能測(cè)不出明顯信號(hào);

　　4. 測(cè)試默認(rèn)單色化Al靶(Al Kα source)，能量1486.68eV;

　　常見項(xiàng)目

　　X射線光電子能譜(XPS)

　　微區(qū)XPS測(cè)試：除了材料的體相成分信息外，許多研究會(huì)關(guān)注材料表面深度約1 μm以內(nèi)的微區(qū)結(jié)構(gòu)和成分信息。

　　XPS深度剖析：可測(cè)試元素沿樣品深度上的含量變化。

　　結(jié)果展示

　　常見問題

　　1. XPS測(cè)試，譜圖如何校正、定標(biāo)?

　　一般是以C-C峰284.6ev進(jìn)行校正的，總譜、分譜是不同的測(cè)試方法，所有不是一起校正的，只校正分譜數(shù)據(jù)，總譜不用校正;價(jià)帶譜VB是以剛出峰的位置為0進(jìn)行校正的。

　　2. XPS半定量處理時(shí)，元素測(cè)試了不同軌道的譜圖，定量以哪個(gè)為準(zhǔn)?

　　定量是以元素的特征軌道譜圖為準(zhǔn)，如果存在多個(gè)軌道，切忌重復(fù)計(jì)算;若不同元素間軌道有重合，一般需要掃一下元素的非特征軌道來計(jì)算含量